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JK-CH600190-XRD冷热台

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JK-CH600190-XRD冷热台是一种安装在X-射线衍射仪上研究样品变温X-射线衍射的附件。产品采用液氮致冷、电阻加热的方式，提供-190~600℃（选型）或RT~1000℃（选型）温度范围内的气氛/真空测试环境。适合于粉末、片材样品在变温下进行X-射线结构研究，适配现有各种X-射线衍射仪（布鲁克、赛默飞、理学等）。

JK-CH600190-XRD冷热台的详细资料：

JK-CH600190-XRD冷热台

JK-XRD原位冷热台是一种安装在X-射线衍射仪上研究样品变温X-射线衍射的附件。产品采用液氮致冷、电阻加热的方式，提供-190~600℃（选型）或RT~1000℃（选型）温度范围内的气氛/真空测试环境。适合于粉末、片材样品在变温下进行X-射线结构研究，适配现有各种X-射线衍射仪（布鲁克、赛默飞、理学等）。

产品需要与温度控制器、致冷控制器（选配）配套使用，配套的上位机温控软件方便进行温度设置及采集，提供的Labview Vis方便客户进行定制化编程。

产品特点：

温度范围-190~600℃（选型）/RT~1000℃（选型）

温度稳定性±0.1℃（＜600℃）±1℃（＞600℃）

衍射角0～164°

X射线视窗Kapton膜

支持反射/透射模式

密腔室设计，可升级真空腔室（10^(-3) mBar）

可更换上盖，作为普通冷热台使用

可调节高度，满足不同厚度样品测试更换上盖，可用作光学冷热台，实现一机多用

详细参数一览表：

XRD原位冷热台		JK-CH600190XV	JK-H1200XV
温控模块	冷热方式	液氮致冷，电阻加热	电阻加热
	温控范围	-190～600℃*	RT～1200℃*
	温度稳定性	±0.1℃（＜600℃），±1℃（＞600℃）*
	温度分辨率	0.1℃
	升降温速率	0~30℃/min（可定点 / 程序段控温）
	温控方式	PID
	温度传感器	PT100	热电偶
光学特性	光路	反射*
	X射线透射膜	Kapton膜
结构特性	样品台尺寸	23×23mm*	12x12mm*
	样品台材质	银质*	陶瓷*
	外形尺寸	100×100×73mm*
	腔室	真空
	外壳冷却	循环水
基本配置	XRD原位冷热台x1、温度控制器x1、致冷控制器x1（低温配置）、液氮罐x1（低温配置）、定制支架x1、温控软件x1、循环水系统x1、连接管路若干
选配	电脑主机/定制温控软件/定制光学盖板
备注	以上均为默认参数 * 为可定制项
其他可选型号	CH400-100-X（-100~400℃）